关于ito激光刻蚀的信息

4 已经商业化应用的TCO薄膜主要是In2O3SnITO和SnO2FFTO2类，ITO由于其透明性好，电阻率低，易刻蚀和易低温制备等优点，一直是显示器领域中的首选TCO薄膜FTO薄膜由于其化学稳定性好，生产设备简单，生产成本低等优点在节能视窗等建筑用大面积TCO薄膜中，具有很大的优势5 Sn02FFTO掺杂体系是一种；47本论文利用电子束蒸发方法制备氧化钨氧化镍薄膜的基础上，研究了热处理工艺对于薄膜电致变色性能的影响48最后利用电子束蒸发技术制备了薄膜样品，样品的光谱性能完全能够满足使用要求49用电子束刻蚀法在晶片上镀上纳米级铝层形成了电感器50介绍了电子束焊机中的具体高电压技术问题。